电子束的偏转与聚焦误差分析

电子束线性偏转、电子束由电子源发射聚焦、和偏转在镜筒内完成 。电子束 聚焦和偏转示波管的阴极发射电子,通过控制电极控制电子束的强度,从而控制荧光屏的亮度 , 用磁电子束测量电子的荷质比时,光阑的作用主要是设置电子束的会聚角和电子束的电流,电子束在磁场中运动时会产生偏转,这种现象叫做电子束 偏转 。

【电子束的偏转与聚焦误差分析】百度文库里有很多1、 电子束光刻技术原理,方法,优缺点?急求!!查阅了资料还是觉得回答的不是...电子束exposure(电子束直写,EBL)的原理 。最大的优点是:精度高,可以达到8nm;不需要掩模板 。最大的缺点是:效率低,成本高 。电子束光刻中使用的曝光机一般有两种:直写和投影 。直写法是将会聚的电子束光斑直接打在涂有光刻胶的基板上,不需要光刻工艺中最昂贵、最耗时的掩膜;在投影法中,电子束通过高精度透镜系统平行缩小 , 投影到涂有光刻胶的基板上 。

工作温度1800K,与冷场发射源相比,能有效防止针尖污染 , 提供稳定的光源 。电子源发射的电子束 聚焦和偏转在镜筒内完成 。透镜镜筒通常包括光阑、电子透镜、挡板、散光校正器和法拉第电流测量镜筒 。振膜的作用主要是设定电子束的会聚角和电子束的电流 。电子镜头的作用是通过静电力或磁力来改变电子束的运动 。

2、 电子束线的 偏转,说明为什么UA不同,N/U不同,N/I也不同? 电子束在磁场中运动时,会产生偏转,称为电子束 偏转 。UA、N/U、N/I分别代表电压、电子数密度、电流强度的不同变化 , 对电子束 偏转的影响如下:UA不同:当加速电压UA变化时,电子束的初速度也会变化,从而影响/ 。一般来说 , 加速电压越高,电子束的初速度越大,偏转的弧度越大 。N/U不同:电子数密度N与加速电压U的比值,N/U,可以反映电子束中电子的平均速度 。

一般来说,当N/U增大时,电子束的速率增大 , 偏转的弧度也增大 。N/I不同:-0/的电流强度I是指单位时间内通过截面的电子数 。当电流强度I变化时,电荷量也发生变化,从而影响电子束上磁场力的大小 。一般来说,当电流强度增大时,电子束上的磁力也增大,其偏转弧度也增大 。综上所述,UA、N/U、N/I的变化都会影响电子束在磁场中的情况,具体影响因素各不相同 。

3、电子比荷的测量电子荷质比的测定【实验目的】:1 。了解利用磁场中的电子偏转测定电子荷质比的方法 。2.通过实验加深对洛伦兹力的理解 。【实验仪器】:FB710电子荷质比测试仪【实验原理】:当一个电荷以速度v垂直进入磁场时,电子会受到洛仑兹力,其大小可由公式fev*B(1)确定 。由于力的方向与速度垂直,所以电子的轨迹是圆,力的方向指向圆心,完全符合圆周运动规律 。所以力和速度的关系是fmv 2/r (2),其中r是电子运动圆的半径 。由于洛伦兹力是使电子做圆周运动的向心力 , 因此evbmv 2/r (3)的公式可以转换为e/mv/rB(4) 。实验装置采用电子枪,由加速电压U驱动,发射电子流,因此e U全部转化为电子的输出动能 。因此,可以从公式(4)和(5)获得另一个EUMV 2/2 (5) 。E/M2u/(R * B) 2 (6)实验中,可以采用固定的加速电压U 。通过改变偏转点,可以产生不同的磁?。?进而测得 。

4、在 电子束的 偏转与 聚焦现象中为什么在接入万用表之前光点不会移动而转...当你旋转Y轴的时候,你就是在调整聚焦,光点当然会移动 。测量偏磁电流时,将万用表的MA档插入偏磁电流的孔中,相当于产生磁场的电路通路 。此时,磁偏调节光点移动 。以前万用表V档测量Ud时 , 万用表接在X或Y的正负两端 , 产生磁场的电路断开 。如果它没有产生磁场 , 当然 , 磁偏调节光点没有移动 。

5、电子荷质比,实验中用什么方法能使 电子束 聚焦, 电子束 聚焦有什么应用实验的应用:带电粒子在电场和磁场中运动的研究 , 在现代科学技术应用的许多领域都具有重要意义 。示波器、电视显像管、摄像管、雷达指示管、电子显微镜都是本次研究的直接产品,都使用电子束-2/和偏转 。在实验中,用磁电子束测量电子的荷质比时,测得的值一般较小 。通过对几组不同实验方法的实验数据分析的处理,提出一种测量方法,使误差最小化 。
6、示波管怎么样用电场控制电子射线的强弱, 电子束的 聚焦以及 偏转示波管的阴极发射电子,通过控制电极控制电子束的强度,从而控制荧光屏的亮度 。第一阳极和第二阳极(部分示波管和第三阳极)加速到电子束,同时也作为电子透镜,使得电子束 聚焦,偏转系统包括Y垂直偏转板和X水平偏转板 。在Y轴放大器和X轴放大器发出的偏转电压的作用下 , 产生偏转的电?。?这样 。

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